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第一章 晶圓加工設(shè)備概述
1.1 晶圓加工設(shè)備基本介紹
1.1.1 晶圓加工設(shè)備價值
1.1.2 晶圓加工設(shè)備分類
1.1.3 晶圓加工設(shè)備特點(diǎn)
1.1.4 行業(yè)的上下游情況
1.2 晶圓加工相關(guān)工藝
1.2.1 晶圓加工流程
1.2.2 熱處理工藝
1.2.3 光刻工藝
1.2.4 刻蝕工藝
1.2.5 薄膜沉積工藝
1.2.6 化學(xué)機(jī)械研磨工藝
1.2.7 清洗工藝
第二章 2022-2024年中國晶圓加工設(shè)備行業(yè)發(fā)展綜述
2.1 中國晶圓加工設(shè)備行業(yè)政策環(huán)境
2.1.1 行業(yè)政策概覽
2.1.2 行業(yè)規(guī)劃政策
2.1.3 行業(yè)稅收政策
2.2 中國晶圓加工設(shè)備行業(yè)發(fā)展環(huán)境
2.2.1 半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)基本情況
2.2.2 全球半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)發(fā)展情況
2.2.3 全球半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)競爭格局
2.2.4 國內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)政策分析
2.2.5 中國半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)發(fā)展情況
2.2.6 國內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)發(fā)展需求
2.3 晶圓加工設(shè)備行業(yè)發(fā)展情況
2.3.1 全球晶圓加工設(shè)備市場規(guī)模
2.3.2 全球晶圓加工設(shè)備細(xì)分市場
2.3.3 中國晶圓加工設(shè)備市場規(guī)模
2.3.4 中國集成電路制造設(shè)備國產(chǎn)化潛力
2.4 中國晶圓加工設(shè)備行業(yè)投招標(biāo)情況
2.4.1 半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)招投標(biāo)情況
2.4.2 晶圓加工設(shè)備廠商中標(biāo)現(xiàn)狀
2.4.3 晶圓加工設(shè)備廠商中標(biāo)動態(tài)
2.4.4 晶圓加工設(shè)備行業(yè)投資風(fēng)險(xiǎn)
2.5 晶圓加工設(shè)備行業(yè)發(fā)展挑戰(zhàn)及建議
2.5.1 晶圓加工設(shè)備行業(yè)發(fā)展挑戰(zhàn)
2.5.2 晶圓加工設(shè)備行業(yè)發(fā)展建議
第三章 2022-2024年中國光刻設(shè)備行業(yè)發(fā)展綜述
3.1 光刻設(shè)備概述
3.1.1 光刻機(jī)基本介紹
3.1.2 光刻設(shè)備技術(shù)介紹
3.1.3 EUV光刻機(jī)制造工藝
3.1.4 主流光刻機(jī)產(chǎn)品對比
3.2 全球光刻設(shè)備行業(yè)發(fā)展情況分析
3.2.1 全球光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展歷程
3.2.2 全球光刻機(jī)行業(yè)上下游布局
3.2.3 全球光刻機(jī)行業(yè)銷量規(guī)模
3.2.4 全球光刻機(jī)行業(yè)市場規(guī)模
3.2.5 全球光刻機(jī)產(chǎn)品結(jié)構(gòu)分析
3.2.6 全球光刻機(jī)行業(yè)競爭格局
3.3 中國光刻設(shè)備行業(yè)發(fā)展情況分析
3.3.1 國內(nèi)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)政策
3.3.2 國內(nèi)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈布局
3.3.3 國內(nèi)光刻機(jī)研發(fā)動態(tài)
3.3.4 光刻機(jī)行業(yè)面臨問題
3.3.5 國產(chǎn)光刻機(jī)發(fā)展建議
3.3.6 國產(chǎn)光刻機(jī)破局之路
3.4 2022-2024年中國光刻機(jī)進(jìn)出口數(shù)據(jù)分析
3.4.1 進(jìn)出口總量數(shù)據(jù)分析
3.4.2 主要貿(mào)易國進(jìn)出口情況分析
3.4.3 主要省市進(jìn)出口情況分析
第四章 2022-2024年中國薄膜沉積設(shè)備行業(yè)發(fā)展綜述
4.1 薄膜沉積設(shè)備概述
4.1.1 薄膜沉積設(shè)備定義
4.1.2 薄膜沉積設(shè)備分類
4.2 薄膜沉積設(shè)備市場發(fā)展情況
4.2.1 全球薄膜沉積設(shè)備市場規(guī)模
4.2.2 全球薄膜沉積設(shè)備競爭態(tài)勢
4.2.3 國內(nèi)薄膜沉積設(shè)備招標(biāo)情況
4.2.4 國內(nèi)薄膜沉積設(shè)備競爭態(tài)勢
4.2.5 薄膜沉積設(shè)備行業(yè)面臨挑戰(zhàn)
4.3 化學(xué)氣相沉積(CVD)設(shè)備行業(yè)發(fā)展情況
4.3.1 CVD技術(shù)概述
4.3.2 CVD設(shè)備產(chǎn)業(yè)鏈全景
4.3.3 CVD設(shè)備行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀
4.3.4 CVD設(shè)備行業(yè)競爭格局
4.4 薄膜沉積設(shè)備行業(yè)發(fā)展前景
4.4.1 薄膜沉積設(shè)備行業(yè)面臨機(jī)遇
4.4.2 薄膜沉積設(shè)備行業(yè)風(fēng)險(xiǎn)分析
4.4.3 薄膜沉積設(shè)備行業(yè)發(fā)展趨勢
第五章 2022-2024年中國刻蝕設(shè)備行業(yè)發(fā)展綜述
5.1 刻蝕設(shè)備概述
5.1.1 半導(dǎo)體刻蝕技術(shù)
5.1.2 刻蝕工藝分類
5.1.3 刻蝕先進(jìn)工藝
5.1.4 刻蝕設(shè)備原理
5.1.5 刻蝕設(shè)備分類
5.1.6 刻蝕設(shè)備產(chǎn)業(yè)鏈
5.2 全球刻蝕設(shè)備行業(yè)發(fā)展情況
5.2.1 刻蝕設(shè)備市場規(guī)模
5.2.2 刻蝕設(shè)備市場結(jié)構(gòu)
5.2.3 刻蝕設(shè)備競爭格局
5.3 中國刻蝕設(shè)備行業(yè)發(fā)展情況
5.3.1 刻蝕行業(yè)驅(qū)動因素
5.3.2 刻蝕設(shè)備國產(chǎn)化情況
5.3.3 刻蝕技術(shù)水平發(fā)展?fàn)顩r
5.3.4 刻蝕領(lǐng)域技術(shù)水平差距
5.3.5 刻蝕設(shè)備國產(chǎn)替代機(jī)遇
第六章 2022-2024年中國化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備行業(yè)發(fā)展?fàn)顩r
6.1 CMP設(shè)備概述
1.1.1 CMP技術(shù)概念
6.1.1 CMP設(shè)備應(yīng)用場景
1.1.2 CMP設(shè)備基本類型
6.2 全球CMP設(shè)備行業(yè)發(fā)展情況
6.2.1 全球CMP設(shè)備市場分布
6.2.2 全球CMP設(shè)備競爭格局
6.2.3 全球CMP設(shè)備市場規(guī)模
6.3 中國CMP設(shè)備行業(yè)發(fā)展情況
6.3.1 CMP設(shè)備市場規(guī)模
6.3.2 CMP設(shè)備市場分布
6.3.3 CMP設(shè)備市場集中度
6.3.4 CMP設(shè)備行業(yè)面臨挑戰(zhàn)
6.4 CMP設(shè)備行業(yè)投資風(fēng)險(xiǎn)
6.4.1 市場競爭風(fēng)險(xiǎn)
6.4.2 技術(shù)創(chuàng)新風(fēng)險(xiǎn)
6.4.3 技術(shù)迭代風(fēng)險(xiǎn)
6.4.4 客戶集中風(fēng)險(xiǎn)
6.4.5 政策變動風(fēng)險(xiǎn)
6.5 CMP設(shè)備技術(shù)發(fā)展趨勢
6.5.1 設(shè)備拋光頭分區(qū)精細(xì)化
6.5.2 清洗單元多能量組合化
6.5.3 設(shè)備工藝控制智能化
6.5.4 預(yù)防性維護(hù)精益化
第七章 2022-2024年中國清洗設(shè)備行業(yè)發(fā)展綜述
7.1 清洗設(shè)備行業(yè)概述
7.1.1 半導(dǎo)體清洗介紹
7.1.2 半導(dǎo)體清洗工藝
7.1.3 清洗設(shè)備的主要類型
7.1.4 清洗設(shè)備的清洗原理
7.2 全球清洗設(shè)備行業(yè)發(fā)展情況
7.2.1 全球清洗設(shè)備行業(yè)市場規(guī)模
7.2.2 全球清洗設(shè)備行業(yè)競爭格局
7.2.3 全球清洗設(shè)備公司技術(shù)布局
7.2.4 全球清洗設(shè)備市場結(jié)構(gòu)分布
7.3 中國清洗設(shè)備行業(yè)發(fā)展情況
7.3.1 國內(nèi)清洗設(shè)備企業(yè)發(fā)展情況
7.3.2 國內(nèi)清洗設(shè)備行業(yè)技術(shù)發(fā)展
7.3.3 國內(nèi)清洗設(shè)備市場發(fā)展空間
7.4 國內(nèi)清洗設(shè)備廠商中標(biāo)情況
7.4.1 中標(biāo)情況概覽
7.4.2 長江存儲
7.4.3 華虹無錫
7.4.4 上海華力
第八章 2022-2024年中國離子注入設(shè)備行業(yè)發(fā)展綜述
8.1 離子注入機(jī)概述
8.1.1 離子注入工藝
8.1.2 離子注入機(jī)組成
8.1.3 離子注入機(jī)類型
8.1.4 離子注入機(jī)工作原理
8.2 離子注入機(jī)應(yīng)用領(lǐng)域分析
8.2.1 光伏應(yīng)用領(lǐng)域
8.2.2 集成電路應(yīng)用領(lǐng)域
8.2.3 面板AMOLED領(lǐng)域
8.3 全球離子注入設(shè)備發(fā)展?fàn)顩r
8.3.1 行業(yè)市場價值
8.3.2 全球市場規(guī)模
8.3.3 全球市場格局
8.3.4 行業(yè)進(jìn)入壁壘
8.4 國內(nèi)離子注入設(shè)備行業(yè)發(fā)展情況
8.4.1 行業(yè)相關(guān)政策
8.4.2 行業(yè)供求分析
8.4.3 行業(yè)市場規(guī)模
8.4.4 細(xì)分市場分析
8.4.5 市場競爭格局
8.4.6 行業(yè)發(fā)展趨勢
第九章 2022-2024年中國其他晶圓加工設(shè)備行業(yè)發(fā)展分析
9.1 涂膠顯影設(shè)備行業(yè)
9.1.1 涂膠顯影設(shè)備介紹
9.1.2 涂膠顯影工藝流程
9.1.3 涂膠顯影設(shè)備行業(yè)規(guī)模
9.1.4 涂膠顯影設(shè)備行業(yè)格局
9.2 去膠設(shè)備行業(yè)
9.2.1 去膠設(shè)備工藝介紹
9.2.2 去膠設(shè)備行業(yè)市場規(guī)模
9.2.3 去膠設(shè)備行業(yè)競爭格局
9.2.4 國內(nèi)去膠設(shè)備企業(yè)發(fā)展
9.3 熱處理設(shè)備行業(yè)
9.3.1 熱處理設(shè)備分類
9.3.2 熱處理設(shè)備技術(shù)特點(diǎn)
9.3.3 熱處理設(shè)備行業(yè)規(guī)模
9.3.4 熱處理設(shè)備競爭格局
9.3.5 熱處理設(shè)備中標(biāo)情況
第十章 2022-2024年晶圓加工設(shè)備行業(yè)下游發(fā)展分析——晶圓制造行業(yè)
10.1 晶圓制造行業(yè)概述
10.1.1 行業(yè)發(fā)展歷程
10.1.2 企業(yè)經(jīng)營模式
10.1.3 行業(yè)技術(shù)發(fā)展
10.2 全球晶圓制造業(yè)發(fā)展分析
10.2.1 全球晶圓制造業(yè)發(fā)展態(tài)勢
10.2.2 全球晶圓制造產(chǎn)能分析
10.2.3 全球晶圓代工市場規(guī)模
10.2.4 全球晶圓代工市場份額
10.2.5 全球晶圓代工企業(yè)擴(kuò)產(chǎn)
10.3 全球晶圓代工產(chǎn)業(yè)格局
10.3.1 專屬晶圓代工廠排名
10.3.2 晶圓代工TOP10企業(yè)
10.3.3 晶圓二線專屬代工企業(yè)
10.3.4 IDM兼晶圓代工企業(yè)
10.4 中國晶圓制造業(yè)發(fā)展分析
10.4.1 晶圓制造行業(yè)規(guī)模
10.4.2 晶圓制造行業(yè)產(chǎn)量
10.4.3 晶圓制造區(qū)域發(fā)展
10.4.4 晶圓制造并購分析
10.4.5 芯片制程升級需求
10.4.6 晶圓制造發(fā)展機(jī)遇
10.5 中國晶圓代工市場運(yùn)行分析
10.5.1 晶圓代工市場發(fā)展規(guī)模
10.5.2 國內(nèi)晶圓廠生產(chǎn)線發(fā)展
10.5.3 本土晶圓代工公司排名
10.5.4 晶圓代工市場發(fā)展預(yù)測
第十一章 2019-2021年國外晶圓加工設(shè)備主要企業(yè)經(jīng)營情況
11.1 應(yīng)用材料(AMAT)
11.1.1 企業(yè)發(fā)展概況
11.1.2 2022年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
11.1.3 2023年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
11.1.4 2024年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
11.2 泛林半導(dǎo)體(Lam)
11.2.1 企業(yè)發(fā)展概況
11.2.2 2022年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
11.2.3 2023年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
11.2.4 2024年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
11.3 東京電子(TEL)
11.3.1 企業(yè)發(fā)展概況
11.3.2 2022年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
11.3.3 2023年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
11.3.4 2024年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
11.4 先晶半導(dǎo)體(ASMI)
11.4.1 企業(yè)發(fā)展概況
11.4.2 2022年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
11.4.3 2023年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
11.4.4 2024年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
第十二章 2021-2024年國內(nèi)晶圓加工設(shè)備主要企業(yè)經(jīng)營情況
12.1 拓荊科技
12.1.1 企業(yè)發(fā)展概況
12.1.2 經(jīng)營效益分析
12.1.3 業(yè)務(wù)經(jīng)營分析
12.1.4 財(cái)務(wù)狀況分析
12.1.5 核心競爭力分析
12.1.6 公司發(fā)展戰(zhàn)略
12.1.7 未來前景展望
12.2 北方華創(chuàng)
12.2.1 企業(yè)發(fā)展概況
12.2.2 經(jīng)營效益分析
12.2.3 業(yè)務(wù)經(jīng)營分析
12.2.4 財(cái)務(wù)狀況分析
12.2.5 核心競爭力分析
12.2.6 公司發(fā)展戰(zhàn)略
12.2.7 未來前景展望
12.3 中微公司
12.3.1 企業(yè)發(fā)展概況
12.3.2 經(jīng)營效益分析
12.3.3 業(yè)務(wù)經(jīng)營分析
12.3.4 財(cái)務(wù)狀況分析
12.3.5 核心競爭力分析
12.3.6 公司發(fā)展戰(zhàn)略
12.3.7 未來前景展望
12.4 盛美上海
12.4.1 企業(yè)發(fā)展概況
12.4.2 企業(yè)主營產(chǎn)品
12.4.3 經(jīng)營效益分析
12.4.4 業(yè)務(wù)經(jīng)營分析
12.4.5 財(cái)務(wù)狀況分析
12.4.6 核心競爭力分析
12.4.7 公司發(fā)展戰(zhàn)略
12.4.8 未來前景展望
12.5 至純科技
12.5.1 企業(yè)發(fā)展概況
12.5.2 企業(yè)主要業(yè)務(wù)
12.5.3 經(jīng)營效益分析
12.5.4 業(yè)務(wù)經(jīng)營分析
12.5.5 財(cái)務(wù)狀況分析
12.5.6 核心競爭力分析
12.5.7 公司發(fā)展戰(zhàn)略
12.5.8 未來前景展望
12.6 萬業(yè)企業(yè)
12.6.1 企業(yè)發(fā)展概況
12.6.2 經(jīng)營效益分析
12.6.3 業(yè)務(wù)經(jīng)營分析
12.6.4 財(cái)務(wù)狀況分析
12.6.5 核心競爭力分析
12.6.6 公司發(fā)展戰(zhàn)略
12.6.7 未來前景展望
12.7 屹唐股份
12.7.1 企業(yè)發(fā)展概況
12.7.2 經(jīng)營效益分析
12.7.3 業(yè)務(wù)經(jīng)營分析
12.7.4 財(cái)務(wù)狀況分析
12.7.5 核心競爭力分析
12.7.6 公司發(fā)展戰(zhàn)略
12.7.7 未來前景展望
12.8 華海清科
12.8.1 企業(yè)發(fā)展概況
12.8.2 拋光墊產(chǎn)品發(fā)展
12.8.3 經(jīng)營效益分析
12.8.4 業(yè)務(wù)經(jīng)營分析
12.8.5 財(cái)務(wù)狀況分析
12.8.6 核心競爭力分析
12.8.7 公司發(fā)展戰(zhàn)略
12.8.8 未來前景展望
第十三章 中國晶圓加工設(shè)備行業(yè)項(xiàng)目投資案例
13.1 拓荊科技原子層沉積(ALD)設(shè)備研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目
13.1.1 項(xiàng)目基本情況
13.1.2 項(xiàng)目投資概算
13.1.3 項(xiàng)目進(jìn)度安排
13.1.4 項(xiàng)目效益分析
13.2 盛美上海清洗設(shè)備研發(fā)項(xiàng)目
13.2.1 項(xiàng)目基本情況
13.2.2 項(xiàng)目價值分析
13.2.3 項(xiàng)目投資概算
13.2.4 項(xiàng)目效益分析
13.3 屹唐股份刻蝕設(shè)備研發(fā)項(xiàng)目
13.3.1 項(xiàng)目基本情況
13.3.2 項(xiàng)目進(jìn)度安排
13.3.3 項(xiàng)目價值分析
13.3.4 項(xiàng)目效益分析
13.4 華海清科化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備項(xiàng)目投資案例
13.4.1 項(xiàng)目基本情況
13.4.2 項(xiàng)目投資價值
13.4.3 項(xiàng)目投資概算
13.4.4 項(xiàng)目效益分析
第十四章 中投顧問對2025-2029年晶圓加工設(shè)備行業(yè)發(fā)展前景及趨勢預(yù)測
14.1 晶圓加工設(shè)備行業(yè)發(fā)展前景
14.1.1 行業(yè)面臨機(jī)遇
14.1.2 國產(chǎn)替代前景
14.1.3 下游市場趨勢
14.2 中投顧問對2025-2029年中國晶圓加工設(shè)備行業(yè)預(yù)測分析
14.2.1 2025-2029年中國晶圓加工設(shè)備行業(yè)影響因素分析
14.2.2 2025-2029年中國晶圓加工設(shè)備市場規(guī)模預(yù)測
晶圓制造過程中有幾大重要的步驟:氧化、沉積、光刻、刻蝕、離子注入/擴(kuò)散等。這幾個主要步驟都需要若干種半導(dǎo)體設(shè)備,滿足不同的需要。設(shè)備中應(yīng)用較為廣泛的有氧化爐、沉積設(shè)備、光刻機(jī)、刻蝕設(shè)備、離子注入機(jī)、清洗機(jī)、化學(xué)研磨設(shè)備等。
2022年中國本土晶圓代工產(chǎn)業(yè)規(guī)模為1035.8億元,同比增長47.5%。2022年中國晶圓代工企業(yè)新增產(chǎn)能為20.05萬片/月,其中12英寸5.8萬片/月,8英寸7萬片/月,增長10.8%,占新增晶圓產(chǎn)能的24%。中國主要晶圓制造企業(yè)2022年產(chǎn)能增加83.5萬片/月(8英寸當(dāng)量)。2023年,在市場需求下滑、核心晶圓擴(kuò)產(chǎn)受限以及設(shè)備供給緊張等因素作用下,中國主要晶圓制造企業(yè)預(yù)計(jì)增加產(chǎn)能60.2萬片/月。
晶圓加工設(shè)備行業(yè)為技術(shù)密集型行業(yè),生產(chǎn)技術(shù)涉及微電子、電氣、機(jī)械、材料、化學(xué)工程、流體力學(xué)、自動化、圖像識別、通訊、軟件系統(tǒng)等多學(xué)科、多領(lǐng)域知識的綜合運(yùn)用。晶圓加工設(shè)備行業(yè)的國際巨頭企業(yè)的市場占有率很高,特別是在光刻機(jī)、檢測設(shè)備、離子注入設(shè)備等方面處于壟斷地位,且其在大部分技術(shù)領(lǐng)域已采取了知識產(chǎn)權(quán)保護(hù)措施,因此晶圓加工設(shè)備行業(yè)的技術(shù)壁壘非常高。中國大陸少數(shù)企業(yè)經(jīng)過了十年以上的技術(shù)研發(fā)和工藝積累,在部分領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)了技術(shù)突破和創(chuàng)新,在避免知識產(chǎn)權(quán)糾紛的前提下,成功推出了差異化的產(chǎn)品,得到國內(nèi)外客戶的認(rèn)可,產(chǎn)品走向了國際市場。
中投產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2025-2029年中國晶圓加工設(shè)備行業(yè)深度調(diào)研及投資前景預(yù)測報(bào)告》共十四章。首先介紹了晶圓加工設(shè)備行業(yè)的發(fā)展環(huán)境,接著分析了國內(nèi)外半導(dǎo)體設(shè)備以及晶圓加工設(shè)備行業(yè)的發(fā)展情況,然后分析了主要晶圓加工設(shè)備的行業(yè)運(yùn)行情況,包括光刻設(shè)備、薄膜沉積設(shè)備、刻蝕設(shè)備、化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備、清洗設(shè)備離子注入設(shè)備以及其他設(shè)備,并分析了我國晶圓加工設(shè)備下游晶圓制造行業(yè)的發(fā)展情況。隨后,報(bào)告對國內(nèi)外晶圓加工設(shè)備行業(yè)重點(diǎn)企業(yè)及項(xiàng)目投資案例做了介紹分析,最后重點(diǎn)分析了行業(yè)的發(fā)展趨勢。
本研究報(bào)告數(shù)據(jù)主要來自于國家統(tǒng)計(jì)局、中國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會、海關(guān)總署、中投產(chǎn)業(yè)研究院、中投產(chǎn)業(yè)研究院市場調(diào)查中心、中國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會以及國內(nèi)外重點(diǎn)刊物等渠道,數(shù)據(jù)權(quán)威、詳實(shí)、豐富,同時通過專業(yè)的分析預(yù)測模型,對行業(yè)核心發(fā)展指標(biāo)進(jìn)行科學(xué)地預(yù)測。您或貴單位若想對晶圓加工設(shè)備行業(yè)有個系統(tǒng)深入的了解、或者想投資晶圓加工設(shè)備行業(yè),本報(bào)告將是您不可或缺的重要參考工具。